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韓國電子巨頭三星宣布已經通過了重要的生產里程碑。在昨天的新聞發布中，它表示“已經成功出貨了100萬個基于極紫外(EUV)技術的業界首個10nm級(D1x)DDR4 DRAM模塊”。這些模塊已經過三星合作伙伴的測試，僅僅是用于高級PC，移動，企業服務器和數據中心產品的EUV過程節點的開始。

DRAM產品與技術執行副總裁Sung-bae Lee表示：“這一重大進步突顯了我們將如何通過及時開發高端工藝技術和面向高端存儲器市場的下一代存儲器產品，繼續為全球IT創新做出貢獻。。的確，三星公司是第一家在EUV DRAM生產中采用EUV光刻技術的公司，它希望這意味著它可以克服整個行業所面臨的DRAM擴展挑戰。

新的基于EUV的內存生產過程的好處包括：減少了多圖案中的重復步驟，提高了圖案精度，提供了增強的性能，并且產量更高。三星補充說，基于EUV的半導體的開發時間也縮短了。

憑借上述所有優點，可以理解的是，在成功進行客戶評估之后，三星將在下一代DRAM中完全部署EUV。這意味著從第四代10nm級(D1a)或高度先進的14nm級DRAM開始。展望不久的將來，這意味著EUV將于明年用于基于D1a的DDR5和LPDDR5的批量生產-將三星12英寸D1x晶圓的生產效率提高一倍。

專門針對明年DDR5 / LPDDR5市場的擴展，三星將于今年下半年在韓國平澤市啟動第二條半導體生產線。

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